ಹಾಲ್ಮಿಯಮ್ ಅಂಶ ಎಂದರೇನು?

1. ಹೋಲ್ಮಿಯಂ ಅಂಶಗಳ ಆವಿಷ್ಕಾರ
ಮೊಸಾಂಡರ್ ಬೇರ್ಪಟ್ಟ ನಂತರಪೃಷ್ಠದಮತ್ತುಪೃಷ್ಠದನಿಂದಕಸಾಯಿಖಾನೆ1842 ರಲ್ಲಿ, ಅನೇಕ ರಸಾಯನಶಾಸ್ತ್ರಜ್ಞರು ಅವುಗಳನ್ನು ಗುರುತಿಸಲು ರೋಹಿತ ವಿಶ್ಲೇಷಣೆಯನ್ನು ಬಳಸಿದರು ಮತ್ತು ಅವು ಒಂದು ಅಂಶದ ಶುದ್ಧ ಆಕ್ಸೈಡ್‌ಗಳಲ್ಲ ಎಂದು ನಿರ್ಧರಿಸಿದರು, ಇದು ರಸಾಯನಶಾಸ್ತ್ರಜ್ಞರನ್ನು ಬೇರ್ಪಡಿಸಲು ಪ್ರೋತ್ಸಾಹಿಸಿತು. ಬೇರ್ಪಡಿಸಿದ ನಂತರಯೆಟರ್ಬಿಯಂ ಆಕ್ಸೈಡ್ಮತ್ತುಬಾಚಿದ ಆಕ್ಸೈಡ್ಯೆಟರ್ಬಿಯಂ ಆಕ್ಸೈಡ್‌ನಿಂದ, ಕ್ಲಿಫ್ 1879 ರಲ್ಲಿ ಎರಡು ಹೊಸ ಆಕ್ಸೈಡ್‌ಗಳನ್ನು ಬೇರ್ಪಡಿಸಿದರು. ಅವುಗಳಲ್ಲಿ ಒಂದನ್ನು ಕ್ಲಿಫ್‌ನ ಜನ್ಮಸ್ಥಳ, ಸ್ಟಾಕ್‌ಹೋಮ್‌ನ ಪ್ರಾಚೀನ ಲ್ಯಾಟಿನ್ ಹೆಸರು, ಸ್ವೀಡನ್‌ನ ರಾಜಧಾನಿ, ಮತ್ತು ಹೋ ಎಂಬ ಅಂಶ ಚಿಹ್ನೆ ನೆನಪಿಗಾಗಿ ಹೋಲ್ಮಿಯಂ ಎಂದು ಹೆಸರಿಸಲಾಯಿತು. ನಂತರ, 1886 ರಲ್ಲಿ, ಬೋಯಿಸ್ಬೊಡ್ರಾನ್ ಮತ್ತೊಂದು ಅಂಶವನ್ನು ಹೋಲ್ಮಿಯಂನಿಂದ ಬೇರ್ಪಡಿಸಿದರು, ಆದರೆ ಹಾಲ್ಮಿಯಂ ಹೆಸರನ್ನು ಉಳಿಸಿಕೊಳ್ಳಲಾಯಿತು. ಹಾಲ್ಮಿಯಂ ಮತ್ತು ಇತರ ಕೆಲವು ಅಪರೂಪದ ಭೂಮಿಯ ಅಂಶಗಳ ಆವಿಷ್ಕಾರದೊಂದಿಗೆ, ಅಪರೂಪದ ಭೂಮಿಯ ಅಂಶಗಳ ಆವಿಷ್ಕಾರದ ಮೂರನೇ ಹಂತದ ಅರ್ಧದಷ್ಟು ಪೂರ್ಣಗೊಂಡಿದೆ.

2. ಹೋಲ್ಮಿಯಂನ ಭೌತಿಕ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು
ಹಾಲ್ಮಿಯಮ್ ಬೆಳ್ಳಿಯ ಬಿಳಿ ಲೋಹ, ಮೃದು ಮತ್ತು ಡಕ್ಟೈಲ್; ಕರಗುವ ಬಿಂದು 1474 ° C, ಕುದಿಯುವ ಬಿಂದು 2695 ° C, ಸಾಂದ್ರತೆ 8.7947 ಗ್ರಾಂ/ಸೆಂ. ಹಾಲ್ಮಿಯಮ್ ಒಣ ಗಾಳಿಯಲ್ಲಿ ಸ್ಥಿರವಾಗಿರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿ ತ್ವರಿತವಾಗಿ ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಣಗೊಳ್ಳುತ್ತದೆ;ಹಾಲ್ಮಿಯಂ ಆಕ್ಸೈಡ್ಇದು ಪ್ರಬಲವಾದ ಪ್ಯಾರಾಮ್ಯಾಗ್ನೆಟಿಕ್ ವಸ್ತುವಾಗಿದೆ. ಹಾಲ್ಮಿಯಮ್ ಸಂಯುಕ್ತಗಳನ್ನು ಹೊಸ ಫೆರೋಮ್ಯಾಗ್ನೆಟಿಕ್ ವಸ್ತುಗಳಿಗೆ ಸೇರ್ಪಡೆಗಳಾಗಿ ಬಳಸಬಹುದು;ಹಾಲ್ಮಿಯಂ ಅಯೊಡೈಡ್ಲೋಹದ ಹಾಲೈಡ್ ದೀಪಗಳನ್ನು ತಯಾರಿಸಲು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ - ಹಾಲ್ಮಿಯಮ್ ದೀಪಗಳು. ಇದು ಕೋಣೆಯ ಉಷ್ಣಾಂಶದಲ್ಲಿ ಒಣ ಗಾಳಿಯಲ್ಲಿ ಸ್ಥಿರವಾಗಿರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಆರ್ದ್ರ ಗಾಳಿಯಲ್ಲಿ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿ ಸುಲಭವಾಗಿ ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಣಗೊಳ್ಳುತ್ತದೆ. ಗಾಳಿ, ಆಕ್ಸೈಡ್‌ಗಳು, ಆಮ್ಲಗಳು, ಹ್ಯಾಲೊಜೆನ್‌ಗಳು ಮತ್ತು ತೇವಾಂಶವುಳ್ಳ ನೀರಿನೊಂದಿಗೆ ಸಂಪರ್ಕವನ್ನು ತಪ್ಪಿಸಿ. ನೀರಿನ ಸಂಪರ್ಕದಲ್ಲಿರುವಾಗ ಅದು ಸುಡುವ ಅನಿಲಗಳನ್ನು ಬಿಡುಗಡೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ; ಅಜೈವಿಕ ಆಮ್ಲಗಳಲ್ಲಿ ಇದು ಕರಗುತ್ತದೆ. ಇದು ಕೋಣೆಯ ಉಷ್ಣಾಂಶದಲ್ಲಿ ಒಣ ಗಾಳಿಯಲ್ಲಿ ಸ್ಥಿರವಾಗಿರುತ್ತದೆ, ಆದರೆ ಆರ್ದ್ರ ಗಾಳಿಯಲ್ಲಿ ಮತ್ತು ಕೋಣೆಯ ಉಷ್ಣಾಂಶದಲ್ಲಿ ತ್ವರಿತವಾಗಿ ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಣಗೊಳ್ಳುತ್ತದೆ. ಇದು ಸಕ್ರಿಯ ರಾಸಾಯನಿಕ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ. ಇದು ನೀರನ್ನು ನಿಧಾನವಾಗಿ ಕೊಳೆಯುತ್ತದೆ. ಇದು ಬಹುತೇಕ ಎಲ್ಲಾ ಲೋಹವಲ್ಲದ ಅಂಶಗಳೊಂದಿಗೆ ಸಂಯೋಜಿಸಬಹುದು. ಇದು ಯಟ್ರಿಯಮ್ ಸಿಲಿಕೇಟ್, ಮೊನಾಜೈಟ್ ಮತ್ತು ಇತರ ಅಪರೂಪದ ಭೂ ಖನಿಜಗಳಲ್ಲಿ ಅಸ್ತಿತ್ವದಲ್ಲಿದೆ. ಕಾಂತೀಯ ಮಿಶ್ರಲೋಹ ವಸ್ತುಗಳನ್ನು ತಯಾರಿಸಲು ಇದನ್ನು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ.

3. ಹೋಲ್ಮಿಯಂನ ರಾಸಾಯನಿಕ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು
ಇದು ಕೋಣೆಯ ಉಷ್ಣಾಂಶದಲ್ಲಿ ಒಣ ಗಾಳಿಯಲ್ಲಿ ಸ್ಥಿರವಾಗಿರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಆರ್ದ್ರ ಗಾಳಿಯಲ್ಲಿ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿ ಸುಲಭವಾಗಿ ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಣಗೊಳ್ಳುತ್ತದೆ. ಗಾಳಿ, ಆಕ್ಸೈಡ್‌ಗಳು, ಆಮ್ಲಗಳು, ಹ್ಯಾಲೊಜೆನ್‌ಗಳು ಮತ್ತು ಆರ್ದ್ರ ನೀರಿನ ಸಂಪರ್ಕವನ್ನು ತಪ್ಪಿಸಿ. ನೀರಿನ ಸಂಪರ್ಕದಲ್ಲಿರುವಾಗ ಅದು ಸುಡುವ ಅನಿಲಗಳನ್ನು ಬಿಡುಗಡೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ; ಇದು ಅಜೈವಿಕ ಆಮ್ಲಗಳಲ್ಲಿ ಕರಗುತ್ತದೆ. ಇದು ಕೋಣೆಯ ಉಷ್ಣಾಂಶದಲ್ಲಿ ಒಣ ಗಾಳಿಯಲ್ಲಿ ಸ್ಥಿರವಾಗಿರುತ್ತದೆ, ಆದರೆ ಆರ್ದ್ರ ಗಾಳಿಯಲ್ಲಿ ಮತ್ತು ಕೋಣೆಯ ಉಷ್ಣಾಂಶದಲ್ಲಿ ವೇಗವಾಗಿ ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಣಗೊಳ್ಳುತ್ತದೆ. ಇದು ಸಕ್ರಿಯ ರಾಸಾಯನಿಕ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ. ಇದು ನಿಧಾನವಾಗಿ ನೀರನ್ನು ಕೊಳೆಯುತ್ತದೆ. ಇದನ್ನು ಬಹುತೇಕ ಎಲ್ಲಾ ಲೋಹವಲ್ಲದ ಅಂಶಗಳೊಂದಿಗೆ ಸಂಯೋಜಿಸಬಹುದು. ಇದು ಯಟ್ರಿಯಮ್ ಸಿಲಿಕೇಟ್, ಮೊನಾಜೈಟ್ ಮತ್ತು ಇತರ ಅಪರೂಪದ ಭೂ ಖನಿಜಗಳಲ್ಲಿ ಅಸ್ತಿತ್ವದಲ್ಲಿದೆ. ಕಾಂತೀಯ ಮಿಶ್ರಲೋಹ ವಸ್ತುಗಳನ್ನು ತಯಾರಿಸಲು ಇದನ್ನು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಡಿಸ್ಪ್ರೊಸಿಯಂನಂತೆ, ಇದು ಪರಮಾಣು ವಿದಳನದಿಂದ ಉತ್ಪತ್ತಿಯಾಗುವ ನ್ಯೂಟ್ರಾನ್‌ಗಳನ್ನು ಹೀರಿಕೊಳ್ಳುವ ಲೋಹವಾಗಿದೆ. ಪರಮಾಣು ರಿಯಾಕ್ಟರ್‌ನಲ್ಲಿ, ಇದು ಒಂದು ಕಡೆ ನಿರಂತರವಾಗಿ ಸುಡುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಮತ್ತೊಂದೆಡೆ ಸರಪಳಿ ಕ್ರಿಯೆಯ ವೇಗವನ್ನು ನಿಯಂತ್ರಿಸುತ್ತದೆ. ಅಂಶ ವಿವರಣೆ: ಇದು ಲೋಹೀಯ ಹೊಳಪನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ. ಇದು ನೀರಿನೊಂದಿಗೆ ನಿಧಾನವಾಗಿ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಿಸಬಹುದು ಮತ್ತು ದುರ್ಬಲಗೊಳಿಸುವ ಆಮ್ಲದಲ್ಲಿ ಕರಗಬಹುದು. ಉಪ್ಪು ಹಳದಿ. ಆಕ್ಸೈಡ್ HO2O2 ತಿಳಿ ಹಸಿರು. ಕ್ಷುಲ್ಲಕ ಅಯಾನು ಹಳದಿ ಉಪ್ಪನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸಲು ಇದು ಖನಿಜ ಆಮ್ಲದಲ್ಲಿ ಕರಗುತ್ತದೆ. ಅಂಶ ಮೂಲ: ಇದನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುವ ಮೂಲಕ ತಯಾರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆಹಾಲ್ಮಿಯಂ ಫ್ಲೋರೈಡ್ಕ್ಯಾಲ್ಸಿಯಂನೊಂದಿಗೆ HOF3 · 2H2O.
ಸಂಯುಕ್ತ
(1)ಹಾಲ್ಮಿಯಂ ಆಕ್ಸೈಡ್ಬಿಳಿ ಮತ್ತು ಎರಡು ರಚನೆಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ: ದೇಹ ಕೇಂದ್ರಿತ ಘನ ಮತ್ತು ಮೊನೊಕ್ಲಿನಿಕ್. HO2O3 ಮಾತ್ರ ಸ್ಥಿರವಾದ ಆಕ್ಸೈಡ್ ಆಗಿದೆ. ಇದರ ರಾಸಾಯನಿಕ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು ಮತ್ತು ತಯಾರಿ ವಿಧಾನಗಳು ಲ್ಯಾಂಥನಮ್ ಆಕ್ಸೈಡ್‌ನಂತೆಯೇ ಇರುತ್ತವೆ. ಹಾಲ್ಮಿಯಮ್ ದೀಪಗಳನ್ನು ತಯಾರಿಸಲು ಇದನ್ನು ಬಳಸಬಹುದು.
(2)ಹೊಳಪುಆಣ್ವಿಕ ಸೂತ್ರ: HO (NO3) 3 · 5H2O; ಆಣ್ವಿಕ ದ್ರವ್ಯರಾಶಿ: 441.02; ಇದು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಜಲಮೂಲಗಳಿಗೆ ಸ್ವಲ್ಪ ಹಾನಿಕಾರಕವಾಗಿದೆ. ಉತ್ಪನ್ನದ ದುರ್ಬಲ ಅಥವಾ ದೊಡ್ಡ ಪ್ರಮಾಣದಲ್ಲಿ ಅಂತರ್ಜಲ, ಜಲಮಾರ್ಗಗಳು ಅಥವಾ ಒಳಚರಂಡಿ ವ್ಯವಸ್ಥೆಗಳೊಂದಿಗೆ ಸಂಪರ್ಕಕ್ಕೆ ಬರಲು ಅನುಮತಿಸಬೇಡಿ. ಸರ್ಕಾರದ ಅನುಮತಿಯಿಲ್ಲದೆ ವಸ್ತುಗಳನ್ನು ಸುತ್ತಮುತ್ತಲಿನ ಪರಿಸರಕ್ಕೆ ಹೊರಹಾಕಬೇಡಿ.

4. ಹೋಲ್ಮಿಯಂನ ಸಿಂಥೆಸಿಸ್ ವಿಧಾನ
1. ಹಾಲ್ಮಿಯಂ ಲೋಹಅನ್‌ಹೈಡ್ರಸ್ ಅನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುವ ಮೂಲಕ ಪಡೆಯಬಹುದುಸೋಗಿಯಂ ಟ್ರೈಕ್ಲೋರೈಡ್ or ಹಾಲ್ಮಿಯಂ ಟ್ರೈಫ್ಲೋರೈಡ್ಲೋಹೀಯ ಕ್ಯಾಲ್ಸಿಯಂನೊಂದಿಗೆ
2. ಅಯಾನ್ ವಿನಿಮಯ ಅಥವಾ ದ್ರಾವಕ ಹೊರತೆಗೆಯುವ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನದಿಂದ ಹೋಲ್ಮಿಯಮ್ ಅನ್ನು ಇತರ ಅಪರೂಪದ ಭೂಮಿಯ ಅಂಶಗಳಿಂದ ಬೇರ್ಪಡಿಸಿದ ನಂತರ, ಲೋಹದ ಉಷ್ಣ ಕಡಿತದಿಂದ ಲೋಹದ ಹಾಲ್ಮಿಯಮ್ ಅನ್ನು ತಯಾರಿಸಬಹುದು. ಅಪರೂಪದ ಭೂಮಿಯ ಕ್ಲೋರೈಡ್‌ನ ಲಿಥಿಯಂ ಉಷ್ಣ ಕಡಿತವು ಅಪರೂಪದ ಭೂಮಿಯ ಕ್ಲೋರೈಡ್‌ನ ಕ್ಯಾಲ್ಸಿಯಂ ಉಷ್ಣ ಕಡಿತಕ್ಕಿಂತ ಭಿನ್ನವಾಗಿದೆ. ಹಿಂದಿನ ಕಡಿತ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಅನಿಲ ಹಂತದಲ್ಲಿ ನಡೆಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಲಿಥಿಯಂ ಉಷ್ಣ ಕಡಿತ ರಿಯಾಕ್ಟರ್ ಅನ್ನು ಎರಡು ತಾಪನ ವಲಯಗಳಾಗಿ ವಿಂಗಡಿಸಲಾಗಿದೆ, ಮತ್ತು ಕಡಿತ ಮತ್ತು ಬಟ್ಟಿ ಇಳಿಸುವಿಕೆಯ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳನ್ನು ಒಂದೇ ಸಾಧನಗಳಲ್ಲಿ ನಡೆಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ನಾಚಿಕೆಗೇಡಿನಹೊಳಪು ಕ್ಲೋರೈಡ್ಮೇಲಿನ ಟೈಟಾನಿಯಂ ರಿಯಾಕ್ಟರ್ ಕ್ರೂಸಿಬಲ್ (HOCL3 ಬಟ್ಟಿ ಇಳಿಸುವಿಕೆಯ ಕೊಠಡಿಯನ್ನೂ ಸಹ) ನಲ್ಲಿ ಇರಿಸಲಾಗಿದೆ, ಮತ್ತು ಕಡಿಮೆಗೊಳಿಸುವ ಏಜೆಂಟ್ ಲೋಹೀಯ ಲಿಥಿಯಂ ಅನ್ನು ಕೆಳ ಕ್ರೂಸಿಬಲ್ನಲ್ಲಿ ಇರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ನಂತರ ಸ್ಟೇನ್ಲೆಸ್ ಸ್ಟೀಲ್ ರಿಯಾಕ್ಷನ್ ಟ್ಯಾಂಕ್ ಅನ್ನು 7 ಪಿಎಗೆ ಸ್ಥಳಾಂತರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ನಂತರ ಬಿಸಿಮಾಡಲಾಗುತ್ತದೆ. ತಾಪಮಾನವು 1000 ತಲುಪಿದಾಗ, ಅದನ್ನು ಅನುಮತಿಸಲು ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಸಮಯದವರೆಗೆ ನಿರ್ವಹಿಸಲಾಗುತ್ತದೆHOCl3ಆವಿ ಮತ್ತು ಲಿಥಿಯಂ ಆವಿ ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಿಸುತ್ತದೆ, ಮತ್ತು ಕಡಿಮೆ ಲೋಹದ ಹಾಲ್ಮಿಯಂ ಘನ ಕಣಗಳು ಕೆಳ ಕ್ರೂಸಿಬಲ್ ಆಗಿ ಬರುತ್ತವೆ. ಕಡಿತ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆ ಪೂರ್ಣಗೊಂಡ ನಂತರ, ಕೆಳಗಿನ ಕ್ರೂಸಿಬಲ್ ಅನ್ನು ಮಾತ್ರ ಲಿಕ್ಲ್ ಅನ್ನು ಮೇಲಿನ ಕ್ರೂಸಿಬಲ್ಗೆ ಬಟ್ಟಿ ಇಳಿಸಲು ಬಿಸಿಮಾಡಲಾಗುತ್ತದೆ. ಕಡಿತ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಸುಮಾರು 10 ಗಂ ತೆಗೆದುಕೊಳ್ಳುತ್ತದೆ. ಶುದ್ಧ ಲೋಹೀಯ ಹೋಲ್ಮಿಯಂ ಅನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸಲು, ಕಡಿಮೆಗೊಳಿಸುವ ಏಜೆಂಟ್ ಲೋಹೀಯ ಲಿಥಿಯಂ 99.97% ಹೆಚ್ಚಿನ ಶುದ್ಧತೆ ಲಿಥಿಯಂ ಆಗಿರಬೇಕು ಮತ್ತು ಡಬಲ್ ಡಿಸ್ಟಿಲ್ಡ್ ಅನ್‌ಹೈಡ್ರಸ್ HOCL3 ಅನ್ನು ಬಳಸಬೇಕು.